出願国別の特許動向を、国際特許分類（IPC）別に見ています。今回は、セクションF「機械工学；照明；加熱；武器；爆破」です。
検索条件
前回までと同じく、検索条件は以下の通りです。
- 対象カテゴリ：国際特許分類（IPC）のセクション（上位1桁）毎
- 対象公報：特許の公開公報に限定（出願件数の伸びに着目するため）
- 対象期間：公報発行日別に過去10年程度（2012年1月1日～2022年6月30日）
- 使用ツール：The Lens
検索式およびヒット件数
検索式およびヒット件数は以下の通りです。出願国（管轄官庁）としての中国を含むか除くか、で2種類です。
出願件数の推移
出願件数（公開公報件数）の推移につき、中国を含む（上図）・含まない（下図）の比較は以下の通りです。中国が約6割を占めています。全体的には減少傾向、中国以外は、他セクションと比べても減少傾向が大きいと言えます。
出願国別の推移
出願件数（公開公報件数）の出願国別（上位10ヶ国）推移は、中国を含む（上図）・含まない（下図）に分けて以下の通りです。1位の中国が2位の米国の4倍程度と、他セクション程ではないですが、やはり中国出願の多さが目立ちます。ここ数年、中国を除く上位国はいずれも減少傾向ですが、とりわけ日本出願の減少が目立ちます。
次回は、セクションG「物理学」を見てみたいと思います。
お読みいただきまして、誠にありがとうございました！
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